采用脉冲激光沉积 (PLD)技术 ,分别在单晶硅基片和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜 ,薄膜为单相尖晶石结构 ,在两种基片上都呈现出一定的 ( 4 0 0 )晶面的择优取向 ,但在硅基片上择优生长更显著.
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